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hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)交流分析

  • 發(fā)布日期:2023-11-15      瀏覽次數(shù):736
    • hamanano靜電點(diǎn)膠/圖案化技術(shù)交流分析

      可對高粘度溶液進(jìn)行圖案化

       我們的靜電點(diǎn)膠技術(shù)可以點(diǎn)膠 pL 至 fL 量級的微量,而這對于傳統(tǒng)方法(噴墨等)來說是困難的。它還可以應(yīng)用于樹脂和甘油等高粘度樣品,這些樣品迄今為止無法制成細(xì)小液滴。此外,它不僅可以應(yīng)用于導(dǎo)電材料,還可以應(yīng)用于玻璃等絕緣基板。

       通過結(jié)合靜電點(diǎn)膠技術(shù)和 XY 移動平臺,可以對各種微滴進(jìn)行圖案化。配備了“橫向靜電點(diǎn)膠/圖案化裝置"和落射照明顯微鏡,可以一邊觀察從噴嘴前端到工件的靜電吸附,一邊判斷液滴的形成條件。各種各樣的變化,包括“外延觀察圖案形成裝置",該裝置將液滴直接滴到可見區(qū)域上,同時(shí)從基板上方實(shí)時(shí)觀察它們。僅對于側(cè)式靜電點(diǎn)膠和圖案化設(shè)備,可以選配可控制滴注環(huán)境溫度和濕度的外部腔室。


      應(yīng)用示例:

      ● 可打印電子產(chǎn)品(包括3D)

      ● 線路維修

      ● 化學(xué)傳感器制造

      ● 小部件的樹脂密封

      ● 提供局部電氣絕緣

      ● 3D設(shè)備的原型制作

      ●功能型樣板制作

      ● 使用Pd納米粒子的局部化學(xué)鍍

      ● 抗蝕劑材料的局部涂敷

      ● 生物芯片生產(chǎn)

      ● 發(fā)光面、發(fā)電面輔助布線

      ● 透鏡遮光部的形成

      ● 接收天線制造

      ● 將試劑局部涂抹到活體組織上

      ● 制造納米線

      破碎的圖像

      側(cè)面觀察式靜電點(diǎn)膠圖案化裝置(ODS-P系列)

      品液體的介電常數(shù)

       由于該裝置利用被稱為“靜電感應(yīng)"的物理現(xiàn)象,因此優(yōu)選具有高介電常數(shù)(10或更高)的樣品液體。這里所說的介電常數(shù)是指“樣品液體的平均介電常數(shù)",包括溶劑中含有的顆粒和溶解物質(zhì)。為了供您參考,我們僅列出了溶劑的介電常數(shù)。



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