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紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運用

  • 發(fā)布日期:2021-08-26      瀏覽次數(shù):1208
    • 紅外線燈加熱裝置在鐵電薄膜的晶體退火上的運用

      MILA-5000系列可以進行高速加熱/冷卻和清潔加熱,這是紅外金像爐的特點。它可以在自由氣氛中加熱,并且?guī)в屑蓽囟瓤刂破骱妥兞康木o湊和廉價大氣室. 紅外線燈加熱裝置.
      可通過USB連接在個人電腦上進行加熱操作, 數(shù)據(jù)易于管理。

      用途

      • 鐵電薄膜的晶體退火

      • 離子注入后的擴散退火、氧化膜形成退火

      • Si、復合晶片燒結(jié)、合金化處理

      • 玻璃基板均溫儀

      • 熱循環(huán)、熱沖擊、熱疲勞試驗

      • 升溫脫附試驗用加熱爐

      • 催化效果試驗


      特征

      • 選擇任何氣氛,如真空、氣體、氣流、氣氛

      • 精確的溫度控制

      • 桌面和緊湊的設計

      • 您可以輕松設置溫度程序并從計算機輸入外部信號。

      • 可以在個人電腦上顯示加熱過程中的溫度數(shù)據(jù)。

      規(guī)格

      模型MILA-5000-PF
      均熱型)
      MILA-5000-PN
      (高溫型)
      MILA-5000UHV
      (高溫/高真空型)
      溫度范圍室溫~800℃室溫~1200℃
      樣品尺寸方形 20mm x 厚度 2mm
      加熱氣氛在空氣中、真空中、惰性氣體中在空氣中,在高真空中,在惰性氣體中
      極限真空度6.5Pa(RP *1使用,常溫空載)10 -4 Pa(TMP *1使用,常溫空載)

      * 1 真空排氣裝置是一個選項
      * 2 加熱溫度因被加熱物體的紅外線反射/吸收、熱容量和材料而異。

    聯(lián)系方式
    • 電話

    • 傳真

    在線交流
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